Immagine in primo piano della piastra di lucidatura del wafer di allumina al 99,7%.

Piastra lucidante per wafer di allumina al 99,7%.

Breve descrizione:

Chemshun 99,7% Al2O3 Substrato di allumina come materiale di elevata purezza e nuovo materiale di grandi dimensioni, ha eccellenti proprietà fisiche e caratteri chimici stabili, il buon prezzo rispetto ad altri materiali.L'allumina ad alta purezza è sempre continuata a svilupparsi dalla ricerca globale e dalle ceramiche avanzate e dalle fabbriche di ceramica fine.

Piastra per lucidatura wafer in allumina al 99,7% per lucidatura meccanica chimica.Come componente importante del processo di lucidatura chimico-meccanica CMP.CMP è il processo necessario per produrre lo zaffiro e il wafer dei semiconduttori.

Le lastre per lucidatura e lappatura in zaffiro ceramiche di allumina al 99,7% di elevata purezza di Chemshun Ceramics, i dischi sono modellati come processo di produzione PIBM.È una tecnologia avanzata interna.PIBM ha risolto con successo il problema chiave della crepa e della deformazione delle ceramiche di allumina di grandi dimensioni. La tecnologia PIBM aprirà un'altra finestra di ceramica fine.

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Dettagli del prodotto

Applicazione

Poiché i dischi per la lucidatura dei wafer in ceramica di allumina e per lappatura in zaffiro utilizzati nella lucidatura semiconduttiva, diamantata, ecc.

Processo: tutti i tipi di processi di lucidatura e lappatura, come lucidatura meccanica chimica CMP, lucidatura meccanica, lucidatura di precisione.

Caratteristica

Elevata purezza e durata chimica
Elevata resistenza meccanica e durezza
Elevata resistenza alla corrosione
Resistenza ad alta tensione
Resistente alle alte temperature Fino a 1700ºC
Prestazioni estremamente resistenti all'abrasione
Eccellenti prestazioni di isolamento
Tutti i tipi di dimensioni 180,360, 450, 600 mm ecc

Nome del prodotto	Dischi per lappatura per lucidatura in ceramica di allumina ad alta purezza 99,7
Materiale	99,7% di allumina
Dimensione normale	D180, 360, 450, 600mm, dimensioni personalizzate accettate.
Colore	Avorio
Applicazione	Processo CMP wafer e zaffiro nell'industria dei semiconduttori
Ordine minimo	1foto

Informazioni chimico/fisiche

		Unità	99.7 Ceramica di allumina
Proprietà generali	Contenuto di Al2O3	% in peso	99,7-99,9
	Densità	gm/cc	3,94-3,97
	Colore	-	Avorio
	Assorbimento dell'acqua	%	0
Proprietà meccaniche	Resistenza alla flessione (MOR) 20 ºC	Mpa(psix10^3)	440-550
	Modulo elastico 20ºC	GPa (psix10^6)	375
	Durezza Vickers	Gpa(kg/mm2) R45N	>=17
	Resistenza alla flessione	Gpa	390
	Resistenza alla trazione 25ºC	MPa(psix10^3)	248
	Resistenza alla frattura (KI c)	MPa*m^1/2	4-5
Proprietà termiche	Conducibilità termica (20ºC)	W/mq	30
	Coefficiente di espansione termica (25-1000ºC)	1x 10^-6/ºC	7.6
	Resistenza agli shock termici	ºC	200
	Temperatura massima di utilizzo	ºC	1700
Proprietà elettriche	Rigidità dielettrica (1 MHz)	ac-kv/mm(ac v/mil)	8.7
	Costante dielettrica (1 MHz)	25ºC	9.7
	Resistività di volume	ohm-cm (25ºC)	>10^14
		ohm-cm (500ºC)	2×10^12
		ohm-cm (1000ºC)	2×10^7

Servizio

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