Chemshunpiastra di lucidatura per wafer di alluminaIl piatto girevole è realizzato in allumina ad alta purezza (99,7-99,9%). La ceramica di allumina ad alta purezza offre un'eccezionale rigidità e un'eccellente resistenza all'usura per la lucidatura dei wafer, mantenendo una buona forma superficiale per un lungo periodo di tempo. È sagomata tramite PIBM (Piece-Induced Boltzmann Machine). È un materiale di riferimento nel settore dei semiconduttori grazie alla sua impareggiabile stabilità termica e dimensionale e alla resistenza agli ambienti difficili delle apparecchiature per la lavorazione dei microchip.
La planarizzazione chimico-meccanica (CMP), nota anche come lucidatura chimico-meccanica, è una tecnologia utilizzata nel processo di produzione di dispositivi a semiconduttore. Sfrutta la corrosione chimica e le forze meccaniche per appiattire i wafer di silicio o altri materiali di substrato durante la lavorazione.
L'apparecchiatura CMP è principalmente suddivisa in due parti: la parte di lucidatura e la parte di pulizia. La parte di lucidatura è composta da 4 parti, ovvero 3 tavole rotanti di lucidatura e un modulo di carico e scarico dei wafer. La parte di pulizia è responsabile della pulizia e dell'asciugatura del wafer per ottenere il processo di "asciugatura in entrata e in uscita". Nell'intera apparecchiatura di lucidatura, la ceramica di allumina svolge un ruolo importante.
Le ceramiche di allumina vengono solitamente utilizzate per la preparazione di dischi per la lucidatura di wafer, che richiedono elevata purezza, elevata resistenza chimica e un buon controllo della forma e della rugosità superficiale.
Il disco abrasivo in ceramica Chemshun con il 99,7% di Al2O3 è realizzato con materiali ceramici avanzati, adatti alla levigatura fine di vari materiali, in particolare di materiali fragili come wafer, ceramica e vetro. I nostri dischi abrasivi in ceramica possono essere realizzati in diverse dimensioni a seconda delle diverse esigenze di levigatura e lucidatura.
Data di pubblicazione: 30 maggio 2025